專題研究計畫

1. 高溫超導創新技術基礎研究子計劃 NSC 80-0511-M-110-01-

2. 矽/矽鍺-異質接面之光熱輻射基礎研究 NSC 81-0208-M-110-24-

3. 碳化矽單晶薄膜成長之傳氏紅外光譜分析 NSC 82-0208-M-110-045-

4. 選擇性氧離子佈植矽晶之恢復及沈集效應研究 NSC 84-2112-M-110-006-

5. 金屬矽化物/矽化鍺/碳化矽接面缺陷機制之紅外光譜研究 NSC 85-2112-M-110-014-

6. 矽化物與矽族半導體接面擴散及缺陷狀態形成之紅外光拉曼及熒光光譜分析 NSC 86-2112-M-110-004-

7. 碳矽鍺合金毫微米結構光電特性研究(I) NSC 87-2112-M-110-004-

8. 碳矽鍺合金毫微米結構光電特性研究(II) NSC 88-2112-M-110-006-

9. 微波化學蒸氣沉集法成長之碳化矽單晶薄膜特性研究 NSC 89-2112-M-110-019-

10. 微波化學蒸氣沈集法成長鑽石/碳化矽多層膜之特性研究 NSC 89-2112-M-110-030-

11. 氮化鎵元件之離子反應蝕刻精確定位及分析(1/2) NSC 90-2112-M-110-011-

12. 表面聲波濾波器之鑽石基板成長及特性分析 NSC 90-2218-E-110-005-

13. 氮化鎵元件之離子反應蝕刻精確定位及分析(2/2) NSC 91-2112-M-110-018-

14. 應用微波電漿化學蒸氣噴射法研製半導體奈米粉末 NSC 92-2112-M-110-008-CC3

15. 以離子佈植法研究p型氮化鎵/金屬接觸特性 NSC 92-2112-M-110-011

16. 多孔矽上奈米鑽石薄膜成長機制及特性研究與應用研發 NSC 93-2112-M-110-018

17. 磁性金屬/ 類鑽碳多層薄膜材料元件製程研發及特性分析 NSC 93-2622-E-110-012-CC3

18. 磁性金屬多層薄膜材料元件基板附著力及溫度特性分析 NSC 94-2622-E-110-006-CC3

19. N型奈米鑽石晶粒薄膜之特性研究

20. 金屬薄膜濺鍍之即時監控時動態光學光譜分析 NSC 95-2112-M-110-007-CC3