所屬組別：微機電組-生醫機電研究室
標題：高真空濺鍍系統 儀器介紹：
利用氬離子轟擊靶材，擊出靶材原子變成氣相並析鍍於基材上。濺鍍具有廣泛應用的特性，幾乎任何材料均可析鍍上。
1) 濺鍍的優點與限制
　 i) 優點
a) 無污染
b) 多用途
c) 附著性好
ii) 限制
a) 靶材的製造受限制
b) 靶材的受損，如陶瓷靶材，限制了使用能量的範圍
c) 析鍍速率低 靶材：本實驗室的靶材有金，白金，銅，鉻，鈦，玻璃，鈀，ITO